Xenon Lab teigia, kad ASML Hi-NA litografijos sistemos artėja prie praktinio naudojimo
YouTube kūrėjas Xenon Lab vaizdo įraše teigia, kad vienos brangiausių technologijų istorijoje staklių iš eksperimento pamažu virsta praktiniu įrankiu. Pasak jo, naujos kartos procesorių gamyba artėja prie masinės rinkos, o ASML pranešė, kad keturi klientai jau naudoja dešimtis High-NA EUV litografijos sistemų, dar trys sistemos yra tiekiamos ir diegiamos.
Kūrėjo teigimu, kiekviena tokia mašina kainuoja šimtus milijonų dolerių ir yra skirta būsimų kartų sudėtingiausių mikroschemų gamybai. Jis aiškina, kad pagrindinis High-NA pranašumas yra didesnė raiška: smulkesnes struktūras galima formuoti per mažesnį ekspozicijos etapų skaičių.
Vaizdo įraše taip pat sakoma, kad Intel jau taiko šią technologiją dalies lustų gamyboje. Pasak Xenon Lab, Samsung ją tiria būsimai DRAM, o TSMC High-NA diegia atsargiau. Kūrėjas dar nurodo, kad ASML EXE sistemomis iš viso jau apdorota daugiau kaip 1,35 mln. plokštelių.
Įrašo pabaigoje Xenon Lab kelia vertinimo klausimą, ar šimtus milijonų dolerių kainuojančios sistemos yra pateisinamos dėl kito lustų miniatiūrizacijos žingsnio.
